Дуальная магнетронная распылительная система

Дуальная магнетронная распылительная система

Detalles Bibliográficos
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Otros Autores:	Кривобоков В. П. Валерий Павлович, Юрьева А. В. Алена Викторовна, Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич, Янин С. Н. Сергей Николаевич
Sumario:	опубл. 27.10.09 Изобретение относится к плазменной технике и предназначено для нанесения на поверхность твердых тел пленок из металлов и их соединений, синтезированных в результате взаимодействия атомов, распыленных с поверхности металлического катода, и газовой среды.
Lenguaje:	ruso
Publicado:
Materias:	патенты труды учёных ТПУ электронный ресурс магнетронные системы распылительные системы плазменная техника твердые тела пленки металлы катоды газовые среды изобретения
Acceso en línea:	http://www.fips.ru/Archive/PAT/2009FULL/2009.10.27/DOC/RUNWC1/000/000/002/371/514/document.pdf
Formato:	Electrónico Libro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648972

Ejemplares similares

Магнетронная распылительная система с жидкофазным катодом; Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых
por: Николаев М. В.
Publicado: (2015)

Несбалансированная магнетронная распылительная система с электромагнитной катушкой; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1
por: Шпакова Н. Ю.
Publicado: (2009)

Магнетронная распылительная система на жидкофазных и твёрдых мишенях в сочетании с внешним пучком ускоренных ионов; Современные техника и технологии; Т. 3
por: Жукова М. А.
Publicado: (2007)

Магнетронная распылительная система
Publicado: ()

Магнетронная распылительная система с жидкофазной мишенью; Современные научные исследования и инновации; № 4
por: Юрьева А. В. Алёна Викторовна
Publicado: (2015)

Исследование эксплуатационных характеристик твердооксидных топливных элементов с YSZ/CGO электролитом; Высокие технологии в современной науке и технике (ВТСНТ-2016)
por: Ромбаева М. Р.
Publicado: (2016)

Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС; Перспективы развития фундаментальных наук
por: Киселева Д. В.
Publicado: (2015)

Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем; Современные техника и технологии - СТТ' 2002; Т. 1
por: Арсланов И. Р.
Publicado: (2002)

Моделирование магнитного поля магнетронной распылительной системы с плоским катодом; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
por: Анорин В. Е. Виталий Евгеньевич
Publicado: (2022)

Низкоэмиссионные и терморегулирующие покрытия на основе тонких слоев серебра; Известия вузов. Физика; Т. 55, № 11/2
Publicado: (2012)

Fabrication and physico-mechanical properties of thin magnetron sputter deposited silver-containing hydroxyapatite films; Applied Surface Science; Vol. 360, pt. B
Publicado: (2015)

Свойства тонких плёнок оксида титана (TiO[2]) и аморфного углерода (а-С), осаждённых с помощью дуальной магнетронной распылительной системы: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
por: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
Publicado: (Томск, 2016)

Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016)
Publicado: (2016)

Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target; Plasma Physics and Technology Journal; Vol. 3, № 1
Publicado: (2016)

Нанесение электрохромных покрытий методом магнетронного распыления; Современные техника и технологии; Т. 2
por: Шпакова Н. Ю.
Publicado: (2011)

Исследование влияния свойств тигля на интенсивность эмиссии атомов с поверхности жидкометаллической мишени МРС; Перспективы развития фундаментальных наук
por: Валдаева С. В.
Publicado: (2012)

Магнетронный диод на парах металлов; Современные техника и технологии - СТТ' 2002; Т. 1
por: Жуков В. В.
Publicado: (2002)

Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 160
por: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Publicado: (2018)

Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
Publicado: (2019)

Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления; Магнетронные распылительные системы
Publicado: (2008)

PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties; Resource-Efficient Technologies; Vol. 3, iss. 2
Publicado: (2017)

Исследование особенностей режима самораспыления при работе магнетронных распылительных систем с испаряющимися металлическими мишенями; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине. Российский и международный опыт подготовки кадров
Publicado: (2020)

Hybrid biocomposites based on titania nanotubes and a hydroxyapatite coating deposited by RF-magnetron sputtering: Surface topography, structure, and mechanical properties; Applied Surface Science; Vol. 426
Publicado: (2017)

Микротекстура поверхности покрытий оксинитридов титана, осажденных методов реактивного магнетронного распыления; Современные техника и технологии; Т. 3
por: Мазурик Е. А.
Publicado: (2014)

Плазменная технология осаждения отражающего покрытия на поверхность углепластика; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2
Publicado: (2011)

Адгезионные свойства серебросодержащих гидроксиапатитовых покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
por: Ткачев М. С.
Publicado: (2016)

Электропроводящие антифрикционные покрытия на основе системы CU-MO-S; Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций
Publicado: (2016)

Свойства тонких плёнок оксида титана (TiO[2]) и аморфного углерода (а-С), осаждённых с помощью дуальной магнетронной распылительной системы: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
por: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
Publicado: (Томск, 2016)

Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий; Современные проблемы машиностроения
por: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Publicado: (2021)

Покрытия на основе оксинитридов титана, осажденные методом реактивного магнетронного распыления: морфология поверхности и химический состав; Современные техника и технологии; Т. 3
por: Иванова Н. М.
Publicado: (2014)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
por: Рогожников Д. С.
Publicado: (2016)

Травление углеродных покрытий в плазме водорода; Водород. Технологии. Будущее
Publicado: (2021)

Способ управления сжиганием унитарного твердого топлива в жидкой среде и газогенератор
Publicado: ()

Изучение скорости растворения покрытий TiON в модельных биологических жидкостях; Химия и химическая технология в XXI веке
por: Ефимова Е. В.
Publicado: (2017)

Определение равномерности толщины никелевых покрытий, нанесенных на циркониевые сплавы методом магнетронного распыления; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
por: Цяо Цзинвэнь
Publicado: (2017)

Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Publicado: (2019)

Влияние напряжения смещения на морфологию поверхности и структуру азотсодержащих тонких пленок диоксида титана; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
por: Иванова Н. М. Нина Михаиловна
Publicado: (2016)

Влияние самораспыления на скорости осаждения медных покрытий при работе магнетрона с испаряющейся мишенью; Перспективные материалы конструкционного и медицинского назначения
Publicado: (2018)

Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
por: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Publicado: (Томск, 2018)

Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
por: Зайцев Даниил Дмитриевич Д. Д.
Publicado: (2023)