APA (7th ed.) Citation

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ), Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, . . . Koyshybaeva Zh. K. Zhanymgul Koyshybaykyzy. (2016). Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit. 2016.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ), Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Syrtanov M. S. Maksim Sergeevich, and Koyshybaeva Zh. K. Zhanymgul Koyshybaykyzy. Aluminum Films Deposition by Magnetron Sputtering Systems: Influence of Target State and Pulsing Unit. 2016, 2016.

MLA (9th ed.) Citation

Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), et al. Aluminum Films Deposition by Magnetron Sputtering Systems: Influence of Target State and Pulsing Unit. 2016, 2016.