Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ), Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, . . . Koyshybaeva Zh. K. Zhanymgul Koyshybaykyzy. (2016). Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit; Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures, OPEN 2016. 2016.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ), Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Syrtanov M. S. Maksim Sergeevich, та Koyshybaeva Zh. K. Zhanymgul Koyshybaykyzy. Aluminum Films Deposition by Magnetron Sputtering Systems: Influence of Target State and Pulsing Unit; Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures, OPEN 2016. 2016, 2016.
Стиль цитування MLA (9-ме видання)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ), et al. Aluminum Films Deposition by Magnetron Sputtering Systems: Influence of Target State and Pulsing Unit; Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures, OPEN 2016. 2016, 2016.