Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда; Упрочняющие технологии и покрытия; № 4

Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда; Упрочняющие технологии и покрытия; № 4

Bibliographic Details
Parent link:Упрочняющие технологии и покрытия.— , 2005-
№ 4.— 2016.— [С. 34-38]
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра общей физики
Other Authors: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич, Кривобоков В. П. Валерий Павлович, Зайцев Д. А. Данила Александрович, Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович, Никитенков Н. Н. Николай Николаевич
Summary:Заглавие с экрана
Получены a-C-пленки (1 мкм) в плазме несбалансированного дуального магнетрона путем распыления графитовых мишеней в среде аргона, которые обладают хорошими антифрикционными свойствами. Твердость и модуль упругости образцов составляют 5,8…19,6 и 64,3…185,8 ГПа соответственно, коэффициент трения не превышает 0,2. Достигнута высокая адгезионная прочность покрытий относительно подложки.
a-C-thin films (1 mk) were obtained in plasma of unbalanced dual magnetron by means of graphite targets sputtering in Ar environment. Hardness and elastic modulus of samples are 5.8…19.6 and 64.3…185.8 GPa. The friction coefficient is lower 0.2. The high adhesion of a-C films to substrate is obtained.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Language:Russian
Published: 2016
Series:Обработка концентрированными потоками энергии
Subjects:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
магнетронное распыление
пленки
твердость
коэффициент трения
Online Access:http://elibrary.ru/item.asp?id=25848942
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648451

Similar Items

Similar Items