Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда; Упрочняющие технологии и покрытия; № 4

Dettagli Bibliografici
Parent link:Упрочняющие технологии и покрытия.— , 2005-
№ 4.— 2016.— [С. 34-38]
Enti autori: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра общей физики
Altri autori: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич, Кривобоков В. П. Валерий Павлович, Зайцев Д. А. Данила Александрович, Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович, Никитенков Н. Н. Николай Николаевич
Riassunto:Заглавие с экрана
Получены a-C-пленки (1 мкм) в плазме несбалансированного дуального магнетрона путем распыления графитовых мишеней в среде аргона, которые обладают хорошими антифрикционными свойствами. Твердость и модуль упругости образцов составляют 5,8…19,6 и 64,3…185,8 ГПа соответственно, коэффициент трения не превышает 0,2. Достигнута высокая адгезионная прочность покрытий относительно подложки.
a-C-thin films (1 mk) were obtained in plasma of unbalanced dual magnetron by means of graphite targets sputtering in Ar environment. Hardness and elastic modulus of samples are 5.8…19.6 and 64.3…185.8 GPa. The friction coefficient is lower 0.2. The high adhesion of a-C films to substrate is obtained.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Lingua:russo
Pubblicazione: 2016
Serie:Обработка концентрированными потоками энергии
Soggetti:
Accesso online:http://elibrary.ru/item.asp?id=25848942
Natura: Elettronico Capitolo di libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648451