Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда; Упрочняющие технологии и покрытия; № 4

Бібліографічні деталі
Parent link:Упрочняющие технологии и покрытия.— , 2005-
№ 4.— 2016.— [С. 34-38]
Співавтори: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра общей физики
Інші автори: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич, Кривобоков В. П. Валерий Павлович, Зайцев Д. А. Данила Александрович, Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович, Никитенков Н. Н. Николай Николаевич
Резюме:Заглавие с экрана
Получены a-C-пленки (1 мкм) в плазме несбалансированного дуального магнетрона путем распыления графитовых мишеней в среде аргона, которые обладают хорошими антифрикционными свойствами. Твердость и модуль упругости образцов составляют 5,8…19,6 и 64,3…185,8 ГПа соответственно, коэффициент трения не превышает 0,2. Достигнута высокая адгезионная прочность покрытий относительно подложки.
a-C-thin films (1 mk) were obtained in plasma of unbalanced dual magnetron by means of graphite targets sputtering in Ar environment. Hardness and elastic modulus of samples are 5.8…19.6 and 64.3…185.8 GPa. The friction coefficient is lower 0.2. The high adhesion of a-C films to substrate is obtained.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Мова:Російська
Опубліковано: 2016
Серія:Обработка концентрированными потоками энергии
Предмети:
Онлайн доступ:http://elibrary.ru/item.asp?id=25848942
Формат: Електронний ресурс Частина з книги
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648451