Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда; Упрочняющие технологии и покрытия; № 4

Dades bibliogràfiques
Parent link:Упрочняющие технологии и покрытия.— , 2005-
№ 4.— 2016.— [С. 34-38]
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра общей физики
Altres autors: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич, Кривобоков В. П. Валерий Павлович, Зайцев Д. А. Данила Александрович, Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович, Никитенков Н. Н. Николай Николаевич
Sumari:Заглавие с экрана
Получены a-C-пленки (1 мкм) в плазме несбалансированного дуального магнетрона путем распыления графитовых мишеней в среде аргона, которые обладают хорошими антифрикционными свойствами. Твердость и модуль упругости образцов составляют 5,8…19,6 и 64,3…185,8 ГПа соответственно, коэффициент трения не превышает 0,2. Достигнута высокая адгезионная прочность покрытий относительно подложки.
a-C-thin films (1 mk) were obtained in plasma of unbalanced dual magnetron by means of graphite targets sputtering in Ar environment. Hardness and elastic modulus of samples are 5.8…19.6 and 64.3…185.8 GPa. The friction coefficient is lower 0.2. The high adhesion of a-C films to substrate is obtained.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:rus
Publicat: 2016
Col·lecció:Обработка концентрированными потоками энергии
Matèries:
Accés en línia:http://elibrary.ru/item.asp?id=25848942
Format: MixedMaterials Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648451