Структура и свойства поверхностного сплава, формируемого при обработке высокоинтенсивным электронным пучком системы пленка - подложка; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 9

Detaylı Bibliyografya
Parent link:	Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1957- Т. 54, № 9.— 2011.— [С. 70-79]
Müşterek Yazar:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Diğer Yazarlar:	Коваль Н. Н. Николай Николаевич, Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович, Ласковнев А. П., Углов В. В. Владимир Васильевич, Черенда Н. Н. Николай Николаевич, Колубаева Ю. А., Маркова Е. А., Тересов А. Д., Москвин П. В.
Özet:	Заглавие с экрана Выполнена обработка систем пленка - подложка высокоинтенсивным электронным пучком субмиллисекундной длительности воздействия. Осуществлены исследования и показано, что электронно-пучковая обработка системы пленка - подложка сопровождается легированием поверхностного слоя материала на глубину расплава с формированием фаз наноразмерного диапазона Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Dil:	Rusça
Baskı/Yayın Bilgisi:	2011
Konular:	электронный ресурс труды учёных ТПУ электронный пучок пленка - подложка структура свойства
Online Erişim:	http://elibrary.ru/item.asp?id=17065311
Materyal Türü:	Elektronik Kitap Bölümü
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648299

MARC


LEADER	00000naa0a2200000 4500
001	648299
005	20250220114323.0
035			\|a (RuTPU)RU\TPU\network\13456
035			\|a RU\TPU\network\13380
090			\|a 648299
100			\|a 20160517d2011 k\|\|y0rusy50 ca
101	0		\|a rus
102			\|a RU
135			\|a drcn ---uucaa
181		0	\|a i
182		0	\|a b
200	1		\|a Структура и свойства поверхностного сплава, формируемого при обработке высокоинтенсивным электронным пучком системы пленка - подложка \|f Н. Н. Коваль [и др.]
203			\|a Текст \|c электронный
300			\|a Заглавие с экрана
320			\|a [Библиогр.: 10 назв.]
330			\|a Выполнена обработка систем пленка - подложка высокоинтенсивным электронным пучком субмиллисекундной длительности воздействия. Осуществлены исследования и показано, что электронно-пучковая обработка системы пленка - подложка сопровождается легированием поверхностного слоя материала на глубину расплава с формированием фаз наноразмерного диапазона
333			\|a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
461			\|t Известия вузов. Физика \|o научный журнал \|f Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) \|d 1957-
463			\|t Т. 54, № 9 \|v [С. 70-79] \|d 2011
610	1		\|a электронный ресурс
610	1		\|a труды учёных ТПУ
610	1		\|a электронный пучок
610	1		\|a пленка - подложка
610	1		\|a структура
610	1		\|a свойства
701		1	\|a Коваль \|b Н. Н. \|c специалист в области электроники \|c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук \|f 1948- \|g Николай Николаевич \|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31831 \|9 15926
701		1	\|a Иванов \|b Ю. Ф. \|c физик \|c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук \|f 1955- \|g Юрий Федорович \|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28208 \|9 13162
701		1	\|a Ласковнев \|b А. П.
701		1	\|a Углов \|b В. В. \|c физик \|c ведущий научный сотрудник Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук \|f 1954- \|g Владимир Васильевич \|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36604 \|9 19645
701		1	\|a Черенда \|b Н. Н. \|c физик \|c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук \|f 1970- \|g Николай Николаевич \|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36795 \|9 19824
701		1	\|a Колубаева \|b Ю. А.
701		1	\|a Маркова \|b Е. А.
701		1	\|a Тересов \|b А. Д.
701		1	\|a Москвин \|b П. В.
712	0	2	\|a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) \|c (2009- ) \|3 (RuTPU)RU\TPU\col\15902
801		2	\|a RU \|b 63413507 \|c 20191212 \|g RCR
856	4		\|u http://elibrary.ru/item.asp?id=17065311
942			\|c CF

MARC

Benzer Materyaller