Структура и свойства поверхностного сплава, формируемого при обработке высокоинтенсивным электронным пучком системы пленка - подложка

Bibliographic Details
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1957-
Т. 54, № 9.— 2011.— [С. 70-79]
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
Other Authors: Коваль Н. Н. Николай Николаевич, Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович, Ласковнев А. П., Углов В. В. Владимир Васильевич, Черенда Н. Н. Николай Николаевич, Колубаева Ю. А., Маркова Е. А., Тересов А. Д., Москвин П. В.
Summary:Заглавие с экрана
Выполнена обработка систем пленка - подложка высокоинтенсивным электронным пучком субмиллисекундной длительности воздействия. Осуществлены исследования и показано, что электронно-пучковая обработка системы пленка - подложка сопровождается легированием поверхностного слоя материала на глубину расплава с формированием фаз наноразмерного диапазона
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Published: 2011
Subjects:
Online Access:http://elibrary.ru/item.asp?id=17065311
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=648299