Влияние потенциала смещения на структуру и распределение элементов в покрытиях нитрида титана полученных методом плазменно-иммерсионной имплантации; Взаимодействие ионов с поверхностью, ВИП - 2015; Т. 3
| Parent link: | Взаимодействие ионов с поверхностью, ВИП - 2015=Ion - surface interactions (ISI - 2015): труды XXII Международной конференции, 20-24 августа 2015, Москва/ под ред. Е. Ю. Зыкова ; П. А. Карасева ; А. И. Титова ; В. Е. Юрасова.— , 2015 Т. 3.— 2015.— [С. 94-97] |
|---|---|
| Erakunde egilea: | |
| Beste egile batzuk: | , , , , |
| Gaia: | Заглавие с экрана TiN thin films were deposited on the well-polished 12X18Н10Т steel using arc ionplating technique. The influence of bias voltage on the structure and element distribution wasinvestigated. The results revealed that the deposited TiN film are crystalline and the preferred(111) orientation was observed as bias increased. Moreover, Ti/N ratio and the quantity andsize of microparticles decreased with the increase in bias voltage from -100 to -300 V. |
| Hizkuntza: | errusiera |
| Argitaratua: |
2015
|
| Gaiak: | |
| Sarrera elektronikoa: | http://plasma.mephi.ru/ru/uploads/files/conferences/ISI-2015/A5%20%20%20Volume_3.pdf#page=94 |
| Formatua: | Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=647929 |
MARC
| LEADER | 00000naa0a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 647929 | ||
| 005 | 20250623094231.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\13086 | ||
| 090 | |a 647929 | ||
| 100 | |a 20160428d2015 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Влияние потенциала смещения на структуру и распределение элементов в покрытиях нитрида титана полученных методом плазменно-иммерсионной имплантации |d Influence of pulsed bias on structure and element distribution in titanium nitride thin film deposited by arc ion plating |f Е. Б. Кашкаров [и др.] | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 97 (7 назв.)] | ||
| 330 | |a TiN thin films were deposited on the well-polished 12X18Н10Т steel using arc ionplating technique. The influence of bias voltage on the structure and element distribution wasinvestigated. The results revealed that the deposited TiN film are crystalline and the preferred(111) orientation was observed as bias increased. Moreover, Ti/N ratio and the quantity andsize of microparticles decreased with the increase in bias voltage from -100 to -300 V. | ||
| 461 | 1 | |t Взаимодействие ионов с поверхностью, ВИП - 2015 |l Ion - surface interactions (ISI - 2015) |o труды XXII Международной конференции, 20-24 августа 2015, Москва |o в 3 т. |f под ред. Е. Ю. Зыкова ; П. А. Карасева ; А. И. Титова ; В. Е. Юрасова |d 2015 | |
| 463 | 1 | |t Т. 3 |v [С. 94-97] |d 2015 | |
| 510 | 1 | |a Influence of pulsed bias on structure and element distribution in titanium nitride thin film deposited by arc ion plating |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 701 | 1 | |a Кашкаров |b Е. Б. |c физик |c доцент, научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук |f 1991- |g Егор Борисович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30728 |9 14999 | |
| 701 | 1 | |a Никитенков |b Н. Н. |c российский физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1953- |g Николай Николаевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25364 | |
| 701 | 1 | |a Тюрин |b Ю. И. |c физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1950- |g Юрий Иванович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\19873 |9 7810 | |
| 701 | 1 | |a Сыртанов |b М. С. |c физик |c доцент, научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат технических наук |f 1990- |g Максим Сергеевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\34762 |9 18112 | |
| 701 | 0 | |a Чжан Ле | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Физико-технический институт (ФТИ) |b Кафедра общей физики (ОФ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18734 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20160428 |g RCR | |
| 850 | |a 63413507 | ||
| 856 | 4 | |u http://plasma.mephi.ru/ru/uploads/files/conferences/ISI-2015/A5%20%20%20Volume_3.pdf#page=94 |z http://plasma.mephi.ru/ru/uploads/files/conferences/ISI-2015/A5%20%20%20Volume_3.pdf#page=94 | |
| 942 | |c CF | ||