Влияние потенциала смещения на структуру и распределение элементов в покрытиях нитрида титана полученных методом плазменно-иммерсионной имплантации

Влияние потенциала смещения на структуру и распределение элементов в покрытиях нитрида титана полученных методом плазменно-иммерсионной имплантации

Bibliographic Details
Parent link:	Взаимодействие ионов с поверхностью, ВИП - 2015=Ion - surface interactions (ISI - 2015): труды XXII Международной конференции, 20-24 августа 2015, Москва/ под ред. Е. Ю. Зыкова ; П. А. Карасева ; А. И. Титова ; В. Е. Юрасова.— , 2015 Т. 3.— 2015.— [С. 94-97]
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ)
Other Authors:	Кашкаров Е. Б. Егор Борисович, Никитенков Н. Н. Николай Николаевич, Тюрин Ю. И. Юрий Иванович, Сыртанов М. С. Максим Сергеевич, Чжан Ле
Summary:	Заглавие с экрана TiN thin films were deposited on the well-polished 12X18Н10Т steel using arc ionplating technique. The influence of bias voltage on the structure and element distribution wasinvestigated. The results revealed that the deposited TiN film are crystalline and the preferred(111) orientation was observed as bias increased. Moreover, Ti/N ratio and the quantity andsize of microparticles decreased with the increase in bias voltage from -100 to -300 V.
Published:	2015
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ
Online Access:	http://plasma.mephi.ru/ru/uploads/files/conferences/ISI-2015/A5%20%20%20Volume_3.pdf#page=94
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=647929

Internet

http://plasma.mephi.ru/ru/uploads/files/conferences/ISI-2015/A5%20%20%20Volume_3.pdf#page=94