Erratum to: Wettability of Thin Silicate-Containing Hydroxyapatite Films formed by RF-Magnetron Sputtering; Russian Physics Journal; Vol. 56, iss. 11

Détails bibliographiques
Parent link:	Russian Physics Journal Vol. 56, iss. 11.— 2014.— [P. 1318]
Collectivité auteur:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра теоретической и экспериментальной физики
Autres auteurs:	Gorodzha S. N. Svetlana Nikolaevna, Surmeneva M. A. Maria Alexandrovna, Surmenev R. A. Roman Anatolievich, Gribennikov M. V., Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich, Sharonova A. A. Anna Aleksandrovna, Pustovalova A. A. Alla Aleksandrovna, Prymack O., Epple M., Wittmar A., Ulbricht M., Gogolinskii K. V., Kravchuk K. S.
Résumé:	Title screen Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Langue:	anglais
Publié:	2014
Sujets:	электронный ресурс труды учёных ТПУ physical-chemical properties RF-magnetron sputtering физико-химические свойства ВЧ-магнетронное распыление пленки
Accès en ligne:	http://dx.doi.org/10.1007/s11182-014-0180-3
Format:	Électronique Chapitre de livre
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=647463

Internet