Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра общей физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Кафедра материаловедения в машиностроении, Dorovskikh S. I. Svetlana Igorevna, Hairullin R. R. Rustam Ravilievich, Sysoev S. V. Sergey Viktorovich, Kriventsov V. V. Vladimir Vladimirovich, . . . Korenev S. V. Sergey Vasiljevich. (2016). MOCVD growth and study of magnetic Co films. 2016. https://doi.org/10.1179/1743294414Y.0000000424
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра общей физики, et al. MOCVD Growth and Study of Magnetic Co Films. 2016, 2016. https://doi.org/10.1179/1743294414Y.0000000424.
ציטוט MLAНациональный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра общей физики, et al. MOCVD Growth and Study of Magnetic Co Films. 2016, 2016. https://doi.org/10.1179/1743294414Y.0000000424.