Сильноточный импульсный имплантер

ग्रंथसूची विवरण
Parent link:Приборы и техника эксперимента: научный журнал.— , 1956-
№ 5.— 2015.— [С. 133-135]
मुख्य लेखक: Степанов А. В. Андрей Владимирович
निगमित लेखकों: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Кафедра техники и электрофизики высоких напряжений, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Лаборатория № 1
अन्य लेखक: Шаманин В. И. Виталий Игоревич, Ремнёв (Ремнев) Г. Е. Геннадий Ефимович
सारांश:Заглавие с экрана
Описан сильноточный импульсный имплантер на основе сильноточного ионного диода с радиальным магнитным полем и предварительным плазмообразованием. Для образования плазмы на аноде диода используется импульс напряжения отрицательной полярности, предшествующий импульсу ускоряющего напряжения. Пауза между импульсами 500 ± 50 нс. В качестве эмиссионного покрытия анода используется графит. Получен ионный пучок с плотностью тока в фокальной плоскости диода до 80 А/см2. Анализ элементного состава ионного пучка с использованием времяпролетной методики показал, что ионный пучок в основном состоит из ионов углерода С+ и С+2 и протонов Н+.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
प्रकाशित: 2015
विषय:
ऑनलाइन पहुंच:http://elibrary.ru/item.asp?id=25344402
स्वरूप: इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=646480

समान संसाधन