Сильноточный импульсный имплантер

Сильноточный импульсный имплантер

Bibliographic Details
Parent link:	Приборы и техника эксперимента: научный журнал.— , 1956- № 5.— 2015.— [С. 133-135]
Main Author:	Степанов А. В. Андрей Владимирович
Corporate Authors:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Кафедра техники и электрофизики высоких напряжений, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт физики высоких технологий Лаборатория № 1
Other Authors:	Шаманин В. И. Виталий Игоревич, Ремнёв (Ремнев) Г. Е. Геннадий Ефимович
Summary:	Заглавие с экрана Описан сильноточный импульсный имплантер на основе сильноточного ионного диода с радиальным магнитным полем и предварительным плазмообразованием. Для образования плазмы на аноде диода используется импульс напряжения отрицательной полярности, предшествующий импульсу ускоряющего напряжения. Пауза между импульсами 500 ± 50 нс. В качестве эмиссионного покрытия анода используется графит. Получен ионный пучок с плотностью тока в фокальной плоскости диода до 80 А/см2. Анализ элементного состава ионного пучка с использованием времяпролетной методики показал, что ионный пучок в основном состоит из ионов углерода С+ и С+2 и протонов Н+. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Published:	2015
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ сильноточные диоды плазмообразование ионные пучки
Online Access:	http://elibrary.ru/item.asp?id=25344402
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=646480

Internet

http://elibrary.ru/item.asp?id=25344402