Ионная имплантация: пер. с нем.

書誌詳細
第一著者:	Риссел Х.
その他の著者:	Руге И.
言語:	ロシア語
出版事項:	Москва, Наука, 1983
主題:	полупроводники ионная имплантация твердые тела оборудование имплантационные слои исследования ионно-легированные слои свойства полупроводниковые приборы
フォーマット:	図書
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=64601

MARC


LEADER	00000nam0a2200000 4500
001	64601
005	20231031065759.0
035			\|a (RuTPU)RU\TPU\book\68551
090			\|a 64601
100			\|a 20040603d1983 km y0rusy50 ca
101	1		\|a rus \|c ger
102			\|a RU
105			\|a a z 001zy
200	1		\|a Ионная имплантация \|e пер. с нем. \|f Х. Риссел, И. Руге
210			\|a Москва \|c Наука \|d 1983
215			\|a 360 с. \|c ил.
320			\|a Библиогр.: с. 345-360
610	1		\|a полупроводники
610	1		\|a ионная имплантация
610	1		\|a твердые тела
610	1		\|a оборудование
610	1		\|a имплантационные слои
610	1		\|a исследования
610	1		\|a ионно-легированные слои
610	1		\|a свойства
610	1		\|a полупроводниковые приборы
675			\|a 539.2:539.1 \|v 3
700		1	\|a Риссел \|b Х.
701		1	\|a Руге \|b И.
801		1	\|a RU \|b 63413507 \|c 20040603 \|g PSBO
801		2	\|a RU \|b 63413507 \|c 20160208 \|g PSBO
900			\|a Взаимодействие частиц с веществом
942			\|c BK