Плазмодинамический синтез нанодисперсного карбида кремния и управление характеристиками продукта

Bibliographic Details
Parent link:Известия вузов. Физика/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1958-
Т. 57, № 12-3.— 2014.— [С. 299-303]
Main Author: Никитин Д. С. Дмитрий Сергеевич
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Энергетический институт (ЭНИН) Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП)
Other Authors: Сивков А. А. Александр Анатольевич
Summary:Заглавие с экрана
Приведены результаты экспериментальных исследований по синтезу ультрадисперсного карбида кремния при воздействии гиперскоростной струи кремний-углеродной электроразрядной плазмы на медную преграду. Методами рентгеновской дифрактометрии, сканирующей и просвечивающей электронной микроскопии установлено значительное увеличение содержания в продукте β-фазы SiC до 88 мас. % и среднего размера кристаллитов примерно от 70 до 140 нм при росте энергетики процесса примерно от 10.0 до 30.0 кДж.
Synthesis of silicon carbide is interested due to the presence of a wide range of his unique mechanical, thermal and electrical properties: superhardness, strength, thermal and corrosion resistance, radiation hardness, unique semiconductor characteristics [1, 2]. The first successful synthesis of SiC was realized by Acheson in 1892 and the most of the SiC powders produced today is manufactured using the Acheson process. There are a great number of nano-SiC synthesis techniques: combustion synthesis (SHS and VCS), physical vapor transport (PVT), chemical vapour deposition (CVD), sol-gel, liquid phase sintering, mechanical alloying and plasmochemical synthesis [1, 3]. But the unique mentioned properties of the produced SiC cannot be generally realized due to dependence on the synthesis methods. In this connection the development of new simple and productive methods for the direct synthesis of nanodispersed high-quality silicon carbide is an important problem. Synthesis method needs to have such advantages as lower energy requirement, simpler and cheaper equipment, higher product purity, and finer and well-sintered starting powders [2]. The paper presents the results of the plasmodinamic synthesis and the ability to control the synthesis process and change characteristics of the product. The above method can be realized in a high-speed pulse jet of the dense Si-C plasma. The fundamental possibility of silicon carbide synthesis by proposed method was shown in the paper [4].
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Language:Russian
Published: 2014
Subjects:
Online Access:http://elibrary.ru/item.asp?id=23815804
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=644525

MARC

LEADER 00000nla0a2200000 4500
001 644525
005 20250312150709.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\9606 
035 |a RU\TPU\network\1104 
090 |a 644525 
100 |a 20151119d2014 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Плазмодинамический синтез нанодисперсного карбида кремния и управление характеристиками продукта  |d The plasmadynamic synthesis of nanodispersed silicon carbide and the product characteristics management  |f Д. С. Никитин, А. А. Сивков 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 303 (5 назв.)] 
330 |a Приведены результаты экспериментальных исследований по синтезу ультрадисперсного карбида кремния при воздействии гиперскоростной струи кремний-углеродной электроразрядной плазмы на медную преграду. Методами рентгеновской дифрактометрии, сканирующей и просвечивающей электронной микроскопии установлено значительное увеличение содержания в продукте β-фазы SiC до 88 мас. % и среднего размера кристаллитов примерно от 70 до 140 нм при росте энергетики процесса примерно от 10.0 до 30.0 кДж. 
330 |a Synthesis of silicon carbide is interested due to the presence of a wide range of his unique mechanical, thermal and electrical properties: superhardness, strength, thermal and corrosion resistance, radiation hardness, unique semiconductor characteristics [1, 2]. The first successful synthesis of SiC was realized by Acheson in 1892 and the most of the SiC powders produced today is manufactured using the Acheson process. There are a great number of nano-SiC synthesis techniques: combustion synthesis (SHS and VCS), physical vapor transport (PVT), chemical vapour deposition (CVD), sol-gel, liquid phase sintering, mechanical alloying and plasmochemical synthesis [1, 3]. But the unique mentioned properties of the produced SiC cannot be generally realized due to dependence on the synthesis methods. In this connection the development of new simple and productive methods for the direct synthesis of nanodispersed high-quality silicon carbide is an important problem. Synthesis method needs to have such advantages as lower energy requirement, simpler and cheaper equipment, higher product purity, and finer and well-sintered starting powders [2]. The paper presents the results of the plasmodinamic synthesis and the ability to control the synthesis process and change characteristics of the product. The above method can be realized in a high-speed pulse jet of the dense Si-C plasma. The fundamental possibility of silicon carbide synthesis by proposed method was shown in the paper [4]. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Известия вузов. Физика  |f Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ)  |d 1958- 
463 |t Т. 57, № 12-3  |v [С. 299-303]  |d 2014 
510 1 |a The plasmadynamic synthesis of nanodispersed silicon carbide and the product characteristics management  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a плазмодинамический синтез 
610 1 |a карбид кремния 
610 1 |a рентгеновская дифрактометрия 
610 1 |a электронная микроскопия 
700 1 |a Никитин  |b Д. С.  |c специалист в области электроэнергетики  |c доцент Томского политехнического университета, кандидат технических наук  |f 1991-  |g Дмитрий Сергеевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\35607  |9 18776 
701 1 |a Сивков  |b А. А.  |c специалист в области электроэнергетики  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1951-  |g Александр Анатольевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26846  |9 12465 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Энергетический институт (ЭНИН)  |b Кафедра электроснабжения промышленных предприятий (ЭПП)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18676 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20151119  |g RCR 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=23815804 
942 |c CF