Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов; Журнал технической физики; Т. 85, вып. 9

Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов; Журнал технической физики; Т. 85, вып. 9

Podrobná bibliografie
Parent link:	Журнал технической физики.— , 1931- Т. 85, вып. 9.— 2015.— [С. 56-61]
Korporace:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт природных ресурсов (ИПР) Кафедра геологии и разработки нефтяных месторождений (ГРНМ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт неразрушающего контроля (ИНК) Кафедра промышленной и медицинской электроники (ПМЭ)
Další autoři:	Ерофеев М. В. Михаил Владимирович, Бакшт Е. Х. Евгений Хаимович, Бураченко А. Г. Александр Геннадьевич, Тарасенко В. Ф. Виктор Федотович
Shrnutí:	Заглавие с экрана Исследована пространственная структура объемного (диффузного) разряда в сильно неоднородном электрическом поле при наносекундных длительностях импульсов напряжения и атмосферном давлении воздуха,а также воздействие плазмы данного разряда на поверхность плоского алюминиевого анода. Показано, что диффузный разряд при наносекундной длительности импульса напряжения генератора позволяет в воздухе атмосферного давления проводить однородную обработку поверхности анода в отличие от искрового разряда, приводящего к ухудшению рельефа поверхности за счет образования на ней микрократеров и зон с измененными свойствами.
Jazyk:	ruština
Vydáno:	2015
Témata:	электронный ресурс труды учёных ТПУ диффузный разряд неоднородное электрическое поле пространственные структуры импульсы напряжения атмосферное давление
On-line přístup:	http://journals.ioffe.ru/jtf/2015/09/page-56.html.ru
Médium:	MixedMaterials Elektronický zdroj Kapitola
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=644065

Internet

http://journals.ioffe.ru/jtf/2015/09/page-56.html.ru