Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов

Условия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов

Bibliographic Details
Parent link:	Журнал технической физики.— , 1931- Т. 85, вып. 9.— 2015.— [С. 56-61]
Corporate Authors:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт природных ресурсов (ИПР) Кафедра геологии и разработки нефтяных месторождений (ГРНМ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт неразрушающего контроля (ИНК) Кафедра промышленной и медицинской электроники (ПМЭ)
Other Authors:	Ерофеев М. В. Михаил Владимирович, Бакшт Е. Х. Евгений Хаимович, Бураченко А. Г. Александр Геннадьевич, Тарасенко В. Ф. Виктор Федотович
Summary:	Заглавие с экрана Исследована пространственная структура объемного (диффузного) разряда в сильно неоднородном электрическом поле при наносекундных длительностях импульсов напряжения и атмосферном давлении воздуха,а также воздействие плазмы данного разряда на поверхность плоского алюминиевого анода. Показано, что диффузный разряд при наносекундной длительности импульса напряжения генератора позволяет в воздухе атмосферного давления проводить однородную обработку поверхности анода в отличие от искрового разряда, приводящего к ухудшению рельефа поверхности за счет образования на ней микрократеров и зон с измененными свойствами.
Published:	2015
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ диффузный разряд неоднородное электрическое поле пространственные структуры импульсы напряжения атмосферное давление
Online Access:	http://journals.ioffe.ru/jtf/2015/09/page-56.html.ru
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=644065

Internet

http://journals.ioffe.ru/jtf/2015/09/page-56.html.ru