Cellular automata modeling of microcrystalline structure formation

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
Parent link:AIP Conference Proceedings
Vol. 1623 : International Conference on Physical Mesomechanics of Multilevel Systems 2014, Tomsk, Russia, 3–5 September 2014.— 2014.— [P. 419-422]
প্রধান লেখক: Mikolaychuk M. Mikhail
সংস্থা লেখক: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра физики высоких технологий в машиностроении (ФВТМ)
অন্যান্য লেখক: Knyazeva A. G. Anna Georgievna
সংক্ষিপ্ত:Title screen
The paper discusses the problem of microcrystalline structure formation during magnetron sputtering. The authors suggest the model based on cellular automata approach combined with chemical kinetics considerations, briefly discuss a practical way for kinetic constants evaluation and derive their accurate values. The work numerically solves a particular problem of coating formation by magnetron sputter deposition in multicomponent chemically active plasma.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
প্রকাশিত: 2014
বিষয়গুলি:
অনলাইন ব্যবহার করুন:http://dx.doi.org/10.1063/1.4898971
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/35730
বিন্যাস: বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায়
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=641874

অনুরূপ উপাদানগুলি