Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ), Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Rabotkin S. V., Ionov I. V. Igor Vyacheslavovich, Shipilova A. V. Anna Viktorovna, Kovalchuk A. N. Anastasia Nikolaevna, & Borduleva A. O. Alena Olegovna. (2014). Bias-assisted magnetron sputtering of yttria-stabilised zirconia thin films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 552 : International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2014), 21–26 September 2014, Tomsk, Russia. 2014.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ), Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Rabotkin S. V., Ionov I. V. Igor Vyacheslavovich, Shipilova A. V. Anna Viktorovna, Kovalchuk A. N. Anastasia Nikolaevna, und Borduleva A. O. Alena Olegovna. Bias-assisted Magnetron Sputtering of Yttria-stabilised Zirconia Thin Films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 552 : International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2014), 21–26 September 2014, Tomsk, Russia. 2014, 2014.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ), et al. Bias-assisted Magnetron Sputtering of Yttria-stabilised Zirconia Thin Films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 552 : International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2014), 21–26 September 2014, Tomsk, Russia. 2014, 2014.