Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ), Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Rabotkin S. V., Ionov I. V. Igor Vyacheslavovich, Shipilova A. V. Anna Viktorovna, Kovalchuk A. N. Anastasia Nikolaevna, & Borduleva A. O. Alena Olegovna. (2014). Bias-assisted magnetron sputtering of yttria-stabilised zirconia thin films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 552 : International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2014), 21–26 September 2014, Tomsk, Russia. 2014.
Cita Chicago (17th ed.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ), Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Rabotkin S. V., Ionov I. V. Igor Vyacheslavovich, Shipilova A. V. Anna Viktorovna, Kovalchuk A. N. Anastasia Nikolaevna, i Borduleva A. O. Alena Olegovna. Bias-assisted Magnetron Sputtering of Yttria-stabilised Zirconia Thin Films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 552 : International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2014), 21–26 September 2014, Tomsk, Russia. 2014, 2014.
Cita MLA (9th ed.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ), et al. Bias-assisted Magnetron Sputtering of Yttria-stabilised Zirconia Thin Films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 552 : International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2014), 21–26 September 2014, Tomsk, Russia. 2014, 2014.