Первопринципные расчеты электронной структуры границ раздела металл-оксид; Фундаментальные проблемы современного материаловедения; Т. 3, № 4
| Parent link: | Фундаментальные проблемы современного материаловедения: научный журнал.— , 2014-.— 1811-1416 Т. 3, № 4.— 2006.— [С. 123-129] |
|---|---|
| Автор: | |
| Інші автори: | , |
| Резюме: | Заглавие с экрана Представлены результаты расчетов электронной структуры границ раздела Nb/Al2O3(0001) и Ni/Zro2(001), проведенные методами теории функционала электронной плотности. Проведены оценки релаксаций атомов поверхностных и интерфейсных слоев для разных окончаний оксидных поверхностей. Обсуждается механизм связи переходных металлов с атомами подложки, определяющий адгезию на границах раздела металл-оксид. We present the results of electronic structure calculations of Nb/Al2O3(0001) and Ni/Zro2(001) interfaces performed by methods of density functional theory. Relaxations of atomic positions of surface and interface layers for different surface terminations of oxides are estimated. The bonding mechanism of transition metals interactions with atoms of substrate determining the adhesion on the metal-oxide interface is discussed. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
2006
|
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | http://elibrary.ru/item.asp?id=12774545 |
| Формат: | Електронний ресурс Частина з книги |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=638924 |