Влияние параметров MOCVD-осаждения на структуру, электрофизические и магнитные свойства тонких пленок Co

Dades bibliogràfiques
Parent link:Химия и технология полимерных и композиционных материалов: сборник материалов Всероссийской молодежной научной школы, г. Моска, 26-28 ноября 2012 г.. [С. 304].— , 2012
Autor principal: Хайруллин Р. Р. Рустам Равильевич
Altres autors: Доровских С. И.
Sumari:Заглавие с экрана
Idioma:rus
Publicat: 2012
Matèries:
Accés en línia:http://www.ch.imetran.ru/uploads/files/Sbornik_materialov.pdf#page=304
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637812

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 637812
005 20250528134628.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\1992 
035 |a RU\TPU\network\1293 
090 |a 637812 
100 |a 20141021d2012 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Влияние параметров MOCVD-осаждения на структуру, электрофизические и магнитные свойства тонких пленок Co  |f Р. Р. Хайруллин, С. И. Доровских 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
463 |t Химия и технология полимерных и композиционных материалов  |o сборник материалов Всероссийской молодежной научной школы, г. Моска, 26-28 ноября 2012 г.  |v [С. 304]  |d 2012 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a тонкие пленки 
610 1 |a электрофизические свойства 
610 1 |a магнитные свойства 
700 1 |a Хайруллин  |b Р. Р.  |c специалист в области материаловедения  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1992-  |g Рустам Равильевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32861 
701 1 |a Доровских  |b С. И. 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ)  |b Кафедра материаловедения в машиностроении (ММС)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18688 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20141107  |g RCR 
850 |a 63413507 
856 4 |u http://www.ch.imetran.ru/uploads/files/Sbornik_materialov.pdf#page=304 
942 |c CF