Влияние параметров MOCVD-осаждения на структуру, электрофизические и магнитные свойства тонких пленок Co; Химия и технология полимерных и композиционных материалов

Bibliographic Details
Parent link:	Химия и технология полимерных и композиционных материалов.— 2012.— [С. 304]
Main Author:	Хайруллин Р. Р. Рустам Равильевич
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра материаловедения в машиностроении (ММС)
Other Authors:	Доровских С. И.
Summary:	Заглавие с экрана
Language:	Russian
Published:	2012
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ тонкие пленки электрофизические свойства магнитные свойства
Online Access:	http://www.ch.imetran.ru/uploads/files/Sbornik_materialov.pdf#page=304
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637812

Internet