|
|
|
|
LEADER |
00000naa0a2200000 4500 |
001 |
637812 |
005 |
20250528134628.0 |
035 |
|
|
|a (RuTPU)RU\TPU\network\1992
|
035 |
|
|
|a RU\TPU\network\1293
|
090 |
|
|
|a 637812
|
100 |
|
|
|a 20141021d2012 k y0rusy50 ca
|
101 |
0 |
|
|a rus
|
102 |
|
|
|a RU
|
135 |
|
|
|a drcn ---uucaa
|
181 |
|
0 |
|a i
|
182 |
|
0 |
|a b
|
200 |
1 |
|
|a Влияние параметров MOCVD-осаждения на структуру, электрофизические и магнитные свойства тонких пленок Co
|f Р. Р. Хайруллин, С. И. Доровских
|
203 |
|
|
|a Текст
|c электронный
|
300 |
|
|
|a Заглавие с экрана
|
463 |
|
|
|t Химия и технология полимерных и композиционных материалов
|o сборник материалов Всероссийской молодежной научной школы, г. Моска, 26-28 ноября 2012 г.
|v [С. 304]
|d 2012
|
610 |
1 |
|
|a электронный ресурс
|
610 |
1 |
|
|a труды учёных ТПУ
|
610 |
1 |
|
|a тонкие пленки
|
610 |
1 |
|
|a электрофизические свойства
|
610 |
1 |
|
|a магнитные свойства
|
700 |
|
1 |
|a Хайруллин
|b Р. Р.
|c специалист в области материаловедения
|c инженер Томского политехнического университета
|f 1992-
|g Рустам Равильевич
|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32861
|
701 |
|
1 |
|a Доровских
|b С. И.
|
712 |
0 |
2 |
|a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
|b Институт физики высоких технологий (ИФВТ)
|b Кафедра материаловедения в машиностроении (ММС)
|3 (RuTPU)RU\TPU\col\18688
|
801 |
|
2 |
|a RU
|b 63413507
|c 20141107
|g RCR
|
850 |
|
|
|a 63413507
|
856 |
4 |
|
|u http://www.ch.imetran.ru/uploads/files/Sbornik_materialov.pdf#page=304
|
942 |
|
|
|c CF
|