Влияние параметров MOCVD-осаждения на структуру, электрофизические и магнитные свойства тонких пленок Co; Химия и технология полимерных и композиционных материалов

מידע ביבליוגרפי
Parent link:Химия и технология полимерных и композиционных материалов.— 2012.— [С. 304]
מחבר ראשי: Хайруллин Р. Р. Рустам Равильевич
מחבר תאגידי: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра материаловедения в машиностроении (ММС)
מחברים אחרים: Доровских С. И.
סיכום:Заглавие с экрана
שפה:רוסית
יצא לאור: 2012
נושאים:
גישה מקוונת:http://www.ch.imetran.ru/uploads/files/Sbornik_materialov.pdf#page=304
פורמט: אלקטרוני Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637812