Диффузия в кристаллическом теле в условиях нагружения; Известия вузов. Физика; Т. 53, № 11(3)

Bibliografiske detaljer
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1957-
Т. 53, № 11(3).— 2010.— [С. 54-57]
Hovedforfatter: Миколайчук М. А. Михаил Александрович
Andre forfattere: Князева А. Г. Анна Георгиевна
Summary:Заглавие с экрана
Сформулирована модель процесса перераспределения примеси между двумя материалами под воздействием одноосного механического нагружения. Задача о механическом равновесии образца решена аналитически. Полученная в результате нелинейная сопряженная задача диффузии в пластине, находящейся в условиях плоского напряженного состояния, решена численно. Проанализировано поведение системы Si(Ge), так как зачастую подобные условия нагружения реализуются в растущих тонких полупроводниковых пленках (~100 нм). Сделанные выводы о влиянии сжимающей внешней нагрузки и толщины покрытия на диффузионные процессы согласуются с экспериментальными данными.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Sprog:russisk
Udgivet: 2010
Fag:
Online adgang:http://elibrary.ru/item.asp?id=16343726
Format: MixedMaterials Electronisk Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637668

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 637668
005 20250122141000.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\1830 
090 |a 637668 
100 |a 20141008d2010 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drnn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Диффузия в кристаллическом теле в условиях нагружения  |f М. А. Миколайчук, А. Г. Князева 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 57 (10 назв.)] 
330 |a Сформулирована модель процесса перераспределения примеси между двумя материалами под воздействием одноосного механического нагружения. Задача о механическом равновесии образца решена аналитически. Полученная в результате нелинейная сопряженная задача диффузии в пластине, находящейся в условиях плоского напряженного состояния, решена численно. Проанализировано поведение системы Si(Ge), так как зачастую подобные условия нагружения реализуются в растущих тонких полупроводниковых пленках (~100 нм). Сделанные выводы о влиянии сжимающей внешней нагрузки и толщины покрытия на диффузионные процессы согласуются с экспериментальными данными. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Известия вузов. Физика  |o научный журнал  |f Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ)  |d 1957- 
463 |t Т. 53, № 11(3)  |v [С. 54-57]  |d 2010 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a диффузия 
610 1 |a имплантация ионов 
610 1 |a аналитические решения 
700 1 |a Миколайчук  |b М. А.  |c физик  |c ассистент Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1985-  |g Михаил Александрович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32755 
701 1 |a Князева  |b А. Г.  |c российский физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1962-  |g Анна Георгиевна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25578  |9 11508 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20150420  |g RCR 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=16343726 
942 |c CF