Динамическая модель начальной стадии процесса ионной имплантации

Bibliografische gegevens
Parent link:Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1957-
Т. 55, № 5-2.— 2012.— [С. 34-41]
Hoofdauteur: Демидов В. Н. Валерий Николаевич
Coauteur: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра физики высоких технологий в машиностроении (ФВТМ)
Andere auteurs: Князева А. Г. Анна Георгиевна, Ильина Е. С. Елена Сергеевна
Samenvatting:Заглавие с экрана
Предложена связанная модель процесса внедрения элемента в поверхностный слой упругого образца в условиях ионной имплантации. Учитывается, что возникающие в результате взаимодействия частиц с поверхностью напряжения влияют на перераспределение имплантированной примеси. Решение задачи осуществляется численно. Учет взаимовлияния разных физических процессов приводит к необходимости тщательного выбора численного алгоритма. В результате получены распределения концентраций и деформаций в различные моменты времени для процессов, протекающих раздельно и совместно.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Gepubliceerd in: 2012
Onderwerpen:
Online toegang:http://elibrary.ru/item.asp?id=18237877
Formaat: Elektronisch Hoofdstuk
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637549

MARC

LEADER 00000nla0a2200000 4500
001 637549
005 20250423092242.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\1701 
090 |a 637549 
100 |a 20140925d2012 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drnn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Динамическая модель начальной стадии процесса ионной имплантации  |f В. Н. Демидов, А. Г. Князева, Е. С. Ильина 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 41 (11 назв.)] 
330 |a Предложена связанная модель процесса внедрения элемента в поверхностный слой упругого образца в условиях ионной имплантации. Учитывается, что возникающие в результате взаимодействия частиц с поверхностью напряжения влияют на перераспределение имплантированной примеси. Решение задачи осуществляется численно. Учет взаимовлияния разных физических процессов приводит к необходимости тщательного выбора численного алгоритма. В результате получены распределения концентраций и деформаций в различные моменты времени для процессов, протекающих раздельно и совместно. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Известия вузов. Физика  |o научный журнал  |f Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ)  |d 1957- 
463 |t Т. 55, № 5-2  |v [С. 34-41]  |d 2012 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a ионная имплантация 
610 1 |a механические напряжения 
610 1 |a математическое моделирование 
610 1 |a взаимосвязь 
700 1 |a Демидов  |b В. Н.  |c физик  |c доцент Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1952-  |g Валерий Николаевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32707 
701 1 |a Князева  |b А. Г.  |c российский физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1962-  |g Анна Георгиевна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25578  |9 11508 
701 1 |a Ильина  |b Е. С.  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1989-  |g Елена Сергеевна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32756 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ)  |b Кафедра физики высоких технологий в машиностроении (ФВТМ)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18687 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160202  |g RCR 
850 |a 63413507 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=18237877 
942 |c CF