Динамическая модель начальной стадии процесса ионной имплантации
| Parent link: | Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ).— , 1957- Т. 55, № 5-2.— 2012.— [С. 34-41] |
|---|---|
| Autore principale: | |
| Ente Autore: | |
| Altri autori: | , |
| Riassunto: | Заглавие с экрана Предложена связанная модель процесса внедрения элемента в поверхностный слой упругого образца в условиях ионной имплантации. Учитывается, что возникающие в результате взаимодействия частиц с поверхностью напряжения влияют на перераспределение имплантированной примеси. Решение задачи осуществляется численно. Учет взаимовлияния разных физических процессов приводит к необходимости тщательного выбора численного алгоритма. В результате получены распределения концентраций и деформаций в различные моменты времени для процессов, протекающих раздельно и совместно. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Lingua: | russo |
| Pubblicazione: |
2012
|
| Soggetti: | |
| Accesso online: | http://elibrary.ru/item.asp?id=18237877 |
| Natura: | Elettronico Capitolo di libro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=637549 |