Сравнительный анализ влияния концентрации CH4/N2 на микроструктуру и свойства алмазных пленок

Dades bibliogràfiques
Parent link:Перспективные материалы конструкционного и функционального назначения.— 2022.— [С. 363-364]
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий", Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов
Altres autors: Митулинский А. С. Александр Сергеевич, Гайдайчук А. В. Александр Валерьевич, Линник С. А. Степан Андреевич, Зенкин С. П. Сергей Петрович
Sumari:Заглавие с экрана
Idioma:rus
Publicat: 2022
Col·lecció:Модификация поверхности
Matèries:
Accés en línia:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/74185
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=635225