Влияние расстояния до подложки на процесс формирования покрытия из кубического карбида вольфрама плазмодинамическим методом; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 2 : Химия
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2022 Т. 2 : Химия.— 2022.— [C. 151-153] |
|---|---|
| Autor principal: | |
| Outros Autores: | |
| Resumo: | Заглавие с экрана The paper shows the possibility of obtaining coatings from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method. According to X-ray phase analysis, the coating consists mainly of cubic tungsten carbide (up to 97%), hexagonal modifications - W2C and WC, also unreacted tungsten and carbon. The optimal location of the substrate relative to the cut of the graphite electrode-barrel was determined, which provides the maximum content of cubic tungsten carbide, as well as the largest deposition area, which amounted to 55÷65 mm. |
| Idioma: | russo |
| Publicado em: |
2022
|
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72948 |
| Formato: | Recurso Eletrônico Capítulo de Livro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=634743 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 634743 | ||
| 005 | 20260204155247.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\36561 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\36560 | ||
| 090 | |a 634743 | ||
| 100 | |a 20220901d2022 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Влияние расстояния до подложки на процесс формирования покрытия из кубического карбида вольфрама плазмодинамическим методом |d Effect of the distance to the substrate on the formation of a coating from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method |f А. Насырбаев |g науч. рук. А. А. Сивков | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 153 (4 назв.)] | ||
| 330 | |a The paper shows the possibility of obtaining coatings from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method. According to X-ray phase analysis, the coating consists mainly of cubic tungsten carbide (up to 97%), hexagonal modifications - W2C and WC, also unreacted tungsten and carbon. The optimal location of the substrate relative to the cut of the graphite electrode-barrel was determined, which provides the maximum content of cubic tungsten carbide, as well as the largest deposition area, which amounted to 55÷65 mm. | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\36478 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of Fundamental Sciences Development |o сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г. |o в 7 т. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой |d 2022 | |
| 463 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\36550 |t Т. 2 : Химия |v [C. 151-153] |d 2022 | |
| 510 | 1 | |a Effect of the distance to the substrate on the formation of a coating from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a подложки | |
| 610 | 1 | |a покрытия | |
| 610 | 1 | |a карбид вольфрама | |
| 610 | 1 | |a плазмодинамические методы | |
| 610 | 1 | |a эксплуатационные характеристики | |
| 610 | 1 | |a срок службы | |
| 610 | 1 | |a кубическая фаза | |
| 610 | 1 | |a фазовый состав | |
| 700 | 1 | |a Насырбаев |b А. |c специалист в области электроэнергетики |c инженер-исследователь Томского политехнического университета |f 1998- |g Артур |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\46733 |9 22369 | |
| 702 | 1 | |a Сивков |b А. А. |c специалист в области электроэнергетики |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук |f 1951- |g Александр Анатольевич |4 727 | |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20220908 |g RCR | |
| 856 | 4 | 0 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72948 |z http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72948 |
| 942 | |c CF | ||