Влияние расстояния до подложки на процесс формирования покрытия из кубического карбида вольфрама плазмодинамическим методом
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2022 Т. 2 : Химия.— 2022.— [C. 151-153] |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | |
| অন্যান্য লেখক: | |
| সংক্ষিপ্ত: | Заглавие с экрана The paper shows the possibility of obtaining coatings from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method. According to X-ray phase analysis, the coating consists mainly of cubic tungsten carbide (up to 97%), hexagonal modifications - W2C and WC, also unreacted tungsten and carbon. The optimal location of the substrate relative to the cut of the graphite electrode-barrel was determined, which provides the maximum content of cubic tungsten carbide, as well as the largest deposition area, which amounted to 55÷65 mm. |
| ভাষা: | রুশ |
| প্রকাশিত: |
2022
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72948 |
| বিন্যাস: | বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায় |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=634743 |