Осаждение хромовых покрытий с помощью магнетронного распыления «горячей» мишени с ассистированием внешним плазменным источником

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2022
Т. 1 : Физика.— 2022.— [С. 35-37]
Main Author: Бондарь А. А. Альберт Алексеевич
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Other Authors: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич (727), Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Summary:Заглавие с экрана
This work shows the possibility to tailor a hardness of 1 µm-thick Cr coatings obtained by high-rate deposition using magnetron sputtering with a "hot" target. For this purpose, an external plasma source was additionally applied to control the hardness of the Cr coatings in the range of 4 to 18 GPa.
Language:Russian
Published: 2022
Subjects:
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72943
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=634669

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 634669
005 20260209150815.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\36487 
035 |a RU\TPU\conf\36485 
090 |a 634669 
100 |a 20220816d2022 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a y z 100zy 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Осаждение хромовых покрытий с помощью магнетронного распыления «горячей» мишени с ассистированием внешним плазменным источником  |d Chromium coating deposition using hot target magnetron sputtering enhanced by additional plasma source  |f А. А. Бондарь, В. А. Грудинин, Д. В. Сиделёв  |g науч. рук. Д. В. Сиделёв 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 37 (4 назв.)] 
330 |a This work shows the possibility to tailor a hardness of 1 µm-thick Cr coatings obtained by high-rate deposition using magnetron sputtering with a "hot" target. For this purpose, an external plasma source was additionally applied to control the hardness of the Cr coatings in the range of 4 to 18 GPa. 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\36478  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of Fundamental Sciences Development  |o сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г.  |o в 7 т.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой  |d 2022 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\36479  |t Т. 1 : Физика  |v [С. 35-37]  |d 2022 
510 1 |a Chromium coating deposition using hot target magnetron sputtering enhanced by additional plasma source  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a хромовые покрытия 
610 1 |a магнетронное распыление 
610 1 |a мишени 
610 1 |a плазменные источники 
610 1 |a плазма 
610 1 |a осаждение 
700 1 |a Бондарь  |b А. А.  |c физик  |c инженер-исследователь Томского политехнического университета  |f 1999-  |g Альберт Алексеевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\47293 
701 1 |a Грудинин  |b В. А.  |c физик  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1995-  |g Владислав Алексеевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\42339  |9 21518 
701 1 |a Сиделёв  |b Д. В.  |c физик  |c доцент Томского политехнического университета, кандидат технических наук  |f 1991-  |g Дмитрий Владимирович  |y Томск  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\34510  |9 17891 
702 1 |a Сиделёв  |b Д. В.  |c физик  |c инженер кафедры Томского политехнического университета  |f 1991-  |g Дмитрий Владимирович  |4 727 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23561 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20220908  |g RCR 
856 4 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72943 
942 |c BK