Моделирование магнитного поля магнетронной распылительной системы с плоским катодом; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Bibliografiske detaljer
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2022
Т. 1 : Физика.— 2022.— С. 17-19
Hovedforfatter: Анорин В. Е. Виталий Евгеньевич
Institution som forfatter: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий
Andre forfattere: Сурменев Р. А. Роман Анатольевич (научный руководитель)
Summary:Заглавие с экрана
In this work, we have simulated the magnetic field of a magnetron sputtering system in a flat target cathode with specified materials using the FEMM 4.2 program. The dependence of the magnetic field on the distance from the target is provided and discussed
Sprog:russisk
Udgivet: 2022
Fag:
Online adgang:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72932
Format: MixedMaterials Electronisk Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=634668

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 634668
005 20251013135715.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\36486 
035 |a RU\TPU\conf\36482 
090 |a 634668 
100 |a 20220816d2022 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Моделирование магнитного поля магнетронной распылительной системы с плоским катодом  |d Simulation of the magnetronic field of a magnetron sputtering system with a flat cathode  |f В. Е. Анорин  |g науч. рук. Р. А. Сурменев 
203 |a Текст  |c электронный  |b визуальный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 19 (4 назв.)] 
330 |a In this work, we have simulated the magnetic field of a magnetron sputtering system in a flat target cathode with specified materials using the FEMM 4.2 program. The dependence of the magnetic field on the distance from the target is provided and discussed 
338 |b Российский научный фонд  |d 22-13-20043 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\36478  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of Fundamental Sciences Development  |o сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г.  |o в 7 т.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой  |d 2022 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\36479  |t Т. 1 : Физика  |v С. 17-19  |d 2022 
510 1 |a Simulation of the magnetronic field of a magnetron sputtering system with a flat cathode  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a математическое моделирование 
610 1 |a магнитные поля 
610 1 |a магнетронные распылительные системы 
610 1 |a эрозия 
610 1 |a магнитные ловушки 
610 1 |a катоды 
610 1 |a магнетроны 
700 1 |a Анорин  |b В. Е.  |g Виталий Евгеньевич  |f 2003-  |c физик  |c ассистент, инженер-исследователь Томского политехнического университета  |9 88693 
702 1 |a Сурменев  |b Р. А.  |c физик  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, доцент, кандидат физико-математических наук  |f 1982-  |g Роман Анатольевич  |4 727 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Исследовательская школа химических и биомедицинских технологий  |c (2017- )  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23537 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20220908  |g RCR 
856 4 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72932  |z http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72932 
942 |c CF