Исследование пленок азотосодержащего оксида титана осажденных магнетронным распылением; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

書目詳細資料
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2020 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2020
Т. 1 : Физика.— 2020.— [С. 236-238]
主要作者: Сунь Чжилэй
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Лаборатория плазменных гибридных систем, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов
其他作者: Конищев М. Е. Максим Евгеньевич (научный руководитель), Пичугин В. Ф. Владимир Федорович
總結:Заглавие с экрана
In the present paper we investigated nitrogen-doped titanium oxide thin films, deposited using magnetron sputtering with different regimes. The influence of reactive atmosphere and substrate bias on film deposition rate, refractive index, phase structure and topography has been analyzed. Regime with N[2]/O[2] ratio of 1-1 was characterized with maximum deposition rate. Addition of argon intro reactive atmosphere and substrate bias has led to the amorphous structure and flattened surface of TiO[x]N[y] films.
語言:俄语
出版: 2020
主題:
在線閱讀:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62569
格式: 電子 Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=631543

相似書籍