Исследование пленок азотосодержащего оксида титана осажденных магнетронным распылением

Исследование пленок азотосодержащего оксида титана осажденных магнетронным распылением

Bibliographic Details
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2020 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2020 Т. 1 : Физика.— 2020.— [С. 236-238]
Main Author:	Сунь Чжилэй
Corporate Authors:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Лаборатория плазменных гибридных систем, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов
Other Authors:	Конищев М. Е. Максим Евгеньевич (727), Пичугин В. Ф. Владимир Федорович
Summary:	Заглавие с экрана In the present paper we investigated nitrogen-doped titanium oxide thin films, deposited using magnetron sputtering with different regimes. The influence of reactive atmosphere and substrate bias on film deposition rate, refractive index, phase structure and topography has been analyzed. Regime with N[2]/O[2] ratio of 1-1 was characterized with maximum deposition rate. Addition of argon intro reactive atmosphere and substrate bias has led to the amorphous structure and flattened surface of TiO[x]N[y] films.
Published:	2020
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ оксид титана магнетронное распыление осаждение фазовый состав тонкие пленки постоянный ток
Online Access:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62569
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=631543

Internet

http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62569