Исследование пленок азотосодержащего оксида титана осажденных магнетронным распылением
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2020 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2020 Т. 1 : Физика.— 2020.— [С. 236-238] |
|---|---|
| Glavni avtor: | |
| Drugi avtorji: | , |
| Izvleček: | Заглавие с экрана In the present paper we investigated nitrogen-doped titanium oxide thin films, deposited using magnetron sputtering with different regimes. The influence of reactive atmosphere and substrate bias on film deposition rate, refractive index, phase structure and topography has been analyzed. Regime with N[2]/O[2] ratio of 1-1 was characterized with maximum deposition rate. Addition of argon intro reactive atmosphere and substrate bias has led to the amorphous structure and flattened surface of TiO[x]N[y] films. |
| Jezik: | ruščina |
| Izdano: |
2020
|
| Teme: | |
| Online dostop: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62569 |
| Format: | Elektronski Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=631543 |