Исследование пленок азотосодержащего оксида титана осажденных магнетронным распылением; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2020 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2020 Т. 1 : Физика.— 2020.— [С. 236-238] |
|---|---|
| Hlavní autor: | |
| Korporace: | , |
| Další autoři: | , |
| Shrnutí: | Заглавие с экрана In the present paper we investigated nitrogen-doped titanium oxide thin films, deposited using magnetron sputtering with different regimes. The influence of reactive atmosphere and substrate bias on film deposition rate, refractive index, phase structure and topography has been analyzed. Regime with N[2]/O[2] ratio of 1-1 was characterized with maximum deposition rate. Addition of argon intro reactive atmosphere and substrate bias has led to the amorphous structure and flattened surface of TiO[x]N[y] films. |
| Jazyk: | ruština |
| Vydáno: |
2020
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62569 |
| Médium: | Elektronický zdroj Kapitola |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=631543 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 631543 | ||
| 005 | 20241125140622.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\33244 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\33243 | ||
| 090 | |a 631543 | ||
| 100 | |a 20200908d2020 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 105 | |a y z 100zy | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Исследование пленок азотосодержащего оксида титана осажденных магнетронным распылением |d Investigation of nitrogen-doped titanium oxide films deposited using magnetron sputtering |f Сунь Чжилэй, М. Е. Конищев |g науч. рук. В. Ф. Пичугин | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 238 (4 назв.)] | ||
| 330 | |a In the present paper we investigated nitrogen-doped titanium oxide thin films, deposited using magnetron sputtering with different regimes. The influence of reactive atmosphere and substrate bias on film deposition rate, refractive index, phase structure and topography has been analyzed. Regime with N[2]/O[2] ratio of 1-1 was characterized with maximum deposition rate. Addition of argon intro reactive atmosphere and substrate bias has led to the amorphous structure and flattened surface of TiO[x]N[y] films. | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\32968 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of Fundamental Sciences Development |o сборник научных трудов XVII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2020 г. |o в 7 т. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой |d 2020 | |
| 463 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\32969 |t Т. 1 : Физика |v [С. 236-238] |d 2020 | |
| 510 | 1 | |a Investigation of nitrogen-doped titanium oxide films deposited using magnetron sputtering |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a оксид титана | |
| 610 | 1 | |a магнетронное распыление | |
| 610 | 1 | |a осаждение | |
| 610 | 1 | |a фазовый состав | |
| 610 | 1 | |a тонкие пленки | |
| 610 | 1 | |a постоянный ток | |
| 700 | 0 | |a Сунь Чжилэй |c физик |c инженер-исследователь Томского политехнического университета |f 1992- |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\46146 | |
| 701 | 1 | |a Конищев |b М. Е. |c физик |c старший преподаватель Томского политехнического университета |f 1987- |g Максим Евгеньевич |y Томск |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\27837 |9 12872 | |
| 702 | 1 | |a Пичугин |b В. Ф. |c российский физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1944- |g Владимир Федорович |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет |b Инженерная школа ядерных технологий |b Лаборатория плазменных гибридных систем |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23381 |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет |b Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов |c (2017- ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23551 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20200923 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62569 | |
| 942 | |c BK | ||