Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Bibliographic Details
Parent link:	Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 277]
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Other Authors:	Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich
Summary:	Заглавие с титульного экрана
Language:	English
Published:	2019
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ магнетронное распыление металлические мишени магнетроны осаждение покрытия самораспыление магнетронные распылительные системы
Online Access:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57759
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630890

Similar Items

Влияние самораспыления на скорости осаждения медных покрытий при работе магнетрона с испаряющейся мишенью; Перспективные материалы конструкционного и медицинского назначения
Published: (2018)

Исследование особенностей режима самораспыления при работе магнетронных распылительных систем с испаряющимися металлическими мишенями; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине. Российский и международный опыт подготовки кадров
Published: (2020)

Magnetron Discharge in the Diode with a Liquid-Metal Target; 7 International conference on modification of materials with particle beams and plasma flows
Published: (2004)

Магнетронная распылительная система на жидкофазных и твёрдых мишенях в сочетании с внешним пучком ускоренных ионов; Современные техника и технологии; Т. 3
by: Жукова М. А.
Published: (2007)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
by: Рогожников Д. С.
Published: (2016)

Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016)
Published: (2016)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью: автореферат диссертации на соискание учёной степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
by: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Published: (Томск, 2017)

Metal Coatings Deposition Using Hot Target Magnetrons; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
Published: (2019)

Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
Published: (2019)

High-rate deposition of chromium coatings by magnetron sputtering; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Published: (2019)

Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий; Современные технологии, экономика и образование
by: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Published: (2020)

Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
by: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Published: (Томск, 2018)

Сравнительный анализ производительности и энергоэффективности получения металлических покрытий с использованием мощных импульсных ионных пучков и плазмы магнетронного разряда; Известия вузов. Физика; Т. 55, № 11 (2)
by: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Published: (2012)

The energy flux onto substrate during coating deposition using magnetron with liquid metal target; Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2016)
by: Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna
Published: (2016)

Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion; Acta Polytechnica; Vol. 56, № 6
Published: (2016)

The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 152
Published: (2018)

Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий; Современные проблемы машиностроения
by: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Published: (2021)

Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 160
by: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Published: (2018)

Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления; Магнетронные распылительные системы
Published: (2008)

High-rate magnetron sputtering with hot target; Surface and Coatings Technology; Vol. 308 : The 43rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films
Published: (2016)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
by: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Published: (Томск, 2017)

Nickel and Chromium Deposition by Hot Target Magnetron Sputtering; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
Published: (2019)

The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target; Vacuum; Vol. 169
Published: (2019)

Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition; Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2016)
by: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
Published: (2016)

Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate; IOP Conference Series: Materials Science and Engineering; Vol. 135 : Issues of Physics and Technology in Science, Industry and Medicine
Published: (2016)

Calcium Phosphate Targets for RF Magnetron Sputtering of Biocoatings; AIP Conference Proceedings; Vol. 2167 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2019 (AMHS'19)
Published: (2019)

Баланс энергии на катодном узле магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Известия вузов. Физика; Т. 57, № 3 (3)
Published: (2014)

PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties; Resource-Efficient Technologies; Vol. 3, iss. 2
Published: (2017)

Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition; Surface and Coatings Technology; Vol. 334
Published: (2018)

Моделирование магнитного поля магнетронной распылительной системы с плоским катодом; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
by: Анорин В. Е. Виталий Евгеньевич
Published: (2022)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
by: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Published: (Томск, [Б. и.], 2017)

Energy and substance transfer in magnetron sputtering systems with liquid-phase target; Vacuum; Vol. 124
Published: (2016)

Formation of bioactive coatings by radio frequency magnetron sputtering using various calcium phosphate targets and working gases; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1281 : 14th InternationalConference on Films and Coatings (ICFC14)
by: Fedotkin A. Yu. Aleksandr Yurjevich
Published: (2019)

Study on the influence of the magnetron power supply on the properties of the Silicon Nitride films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 789 : Low temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation
Published: (2017)

Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source for CrNx coatings deposition; Vacuum; Vol. 191
Published: (2021)

Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target; Surface and Coatings Technology; Vol. 324
Published: (2017)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
by: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Published: (Томск, [Б. и.], 2017)

Phenomenological Model of Dc Magnetron Discharge; 7 International conference on modification of materials with particle beams and plasma flows
Published: (2004)

Влияние процесса распыления на структуру ВЧ-магнетронных тонких пленок; Перспективы развития фундаментальных наук
by: Шаронова А. А. Анна Александровна
Published: (2013)

Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target; Plasma Physics and Technology Journal; Vol. 3, № 1
Published: (2016)