Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Detalhes bibliográficos
Parent link:	Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 277]
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Outros Autores:	Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich
Resumo:	Заглавие с титульного экрана
Idioma:	inglês
Publicado em:	2019
Assuntos:	электронный ресурс труды учёных ТПУ магнетронное распыление металлические мишени магнетроны осаждение покрытия самораспыление магнетронные распылительные системы
Acesso em linha:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57759
Formato:	Recurso Electrónico Capítulo de Livro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630890

Registos relacionados

Влияние самораспыления на скорости осаждения медных покрытий при работе магнетрона с испаряющейся мишенью; Перспективные материалы конструкционного и медицинского назначения
Publicado em: (2018)

Magnetron Discharge in the Diode with a Liquid-Metal Target; 7 International conference on modification of materials with particle beams and plasma flows
Publicado em: (2004)

Исследование особенностей режима самораспыления при работе магнетронных распылительных систем с испаряющимися металлическими мишенями; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине. Российский и международный опыт подготовки кадров
Publicado em: (2020)

Магнетронная распылительная система на жидкофазных и твёрдых мишенях в сочетании с внешним пучком ускоренных ионов; Современные техника и технологии; Т. 3
Por: Жукова М. А.
Publicado em: (2007)

Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016)
Publicado em: (2016)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
Por: Рогожников Д. С.
Publicado em: (2016)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью: автореферат диссертации на соискание учёной степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
Por: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Publicado em: (Томск, 2017)

Metal Coatings Deposition Using Hot Target Magnetrons; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
Publicado em: (2019)

Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
Publicado em: (2019)

High-rate deposition of chromium coatings by magnetron sputtering; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Publicado em: (2019)

Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий; Современные технологии, экономика и образование
Por: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Publicado em: (2020)

Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion; Acta Polytechnica; Vol. 56, № 6
Publicado em: (2016)

The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 152
Publicado em: (2018)

Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
Por: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
Publicado em: (Томск, 2018)

The energy flux onto substrate during coating deposition using magnetron with liquid metal target; Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2016)
Por: Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna
Publicado em: (2016)

Сравнительный анализ производительности и энергоэффективности получения металлических покрытий с использованием мощных импульсных ионных пучков и плазмы магнетронного разряда; Известия вузов. Физика; Т. 55, № 11 (2)
Por: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
Publicado em: (2012)

Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 160
Por: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Publicado em: (2018)

Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий; Современные проблемы машиностроения
Por: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
Publicado em: (2021)

High-rate magnetron sputtering with hot target; Surface and Coatings Technology; Vol. 308 : The 43rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films
Publicado em: (2016)

Кн. 1: Введение в физику и технику магнетронного распыления; Магнетронные распылительные системы
Publicado em: (2008)

Nickel and Chromium Deposition by Hot Target Magnetron Sputtering; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
Publicado em: (2019)

The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target; Vacuum; Vol. 169
Publicado em: (2019)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
Por: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Publicado em: (Томск, 2017)

Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition; Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2016)
Por: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
Publicado em: (2016)

Calcium Phosphate Targets for RF Magnetron Sputtering of Biocoatings; AIP Conference Proceedings; Vol. 2167 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2019 (AMHS'19)
Publicado em: (2019)

Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate; IOP Conference Series: Materials Science and Engineering; Vol. 135 : Issues of Physics and Technology in Science, Industry and Medicine
Publicado em: (2016)

PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties; Resource-Efficient Technologies; Vol. 3, iss. 2
Publicado em: (2017)

Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition; Surface and Coatings Technology; Vol. 334
Publicado em: (2018)

Баланс энергии на катодном узле магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Известия вузов. Физика; Т. 57, № 3 (3)
Publicado em: (2014)

Energy and substance transfer in magnetron sputtering systems with liquid-phase target; Vacuum; Vol. 124
Publicado em: (2016)

Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target; Surface and Coatings Technology; Vol. 324
Publicado em: (2017)

Моделирование магнитного поля магнетронной распылительной системы с плоским катодом; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
Por: Анорин В. Е. Виталий Евгеньевич
Publicado em: (2022)

Formation of bioactive coatings by radio frequency magnetron sputtering using various calcium phosphate targets and working gases; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1281 : 14th InternationalConference on Films and Coatings (ICFC14)
Por: Fedotkin A. Yu. Aleksandr Yurjevich
Publicado em: (2019)

Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source for CrNx coatings deposition; Vacuum; Vol. 191
Publicado em: (2021)

Study on the influence of the magnetron power supply on the properties of the Silicon Nitride films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 789 : Low temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation
Publicado em: (2017)

Phenomenological Model of Dc Magnetron Discharge; 7 International conference on modification of materials with particle beams and plasma flows
Publicado em: (2004)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
Por: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Publicado em: (Томск, [Б. и.], 2017)

Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target; Plasma Physics and Technology Journal; Vol. 3, № 1
Publicado em: (2016)

Ntibacterial potential of Zn- and Cu- substituted hydroxyapatite coatings deposited by RF-magnetron sputtering: structure and properties; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Publicado em: (2019)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетрона с жидкофазной мишенью: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
Por: Юрьева А. В. Алена Викторовна
Publicado em: (Томск, [Б. и.], 2017)