Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, & Modebadze G. S. Georgy Slavovich. (2019). Peculiarities of the formation of high-intensity ion beams of gases, metals and semiconductor materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019.
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, and Modebadze G. S. Georgy Slavovich. Peculiarities of the Formation of High-intensity Ion Beams of Gases, Metals and Semiconductor Materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Peculiarities of the Formation of High-intensity Ion Beams of Gases, Metals and Semiconductor Materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.