Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, & Modebadze G. S. Georgy Slavovich. (2019). Peculiarities of the formation of high-intensity ion beams of gases, metals and semiconductor materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, und Modebadze G. S. Georgy Slavovich. Peculiarities of the Formation of High-intensity Ion Beams of Gases, Metals and Semiconductor Materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Peculiarities of the Formation of High-intensity Ion Beams of Gases, Metals and Semiconductor Materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.