Peculiarities of the formation of high-intensity ion beams of gases, metals and semiconductor materials

Bibliografiset tiedot
Parent link:	Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019): 14th International Conference, September 15–21, 2019, Tomsk, Russia/ National Research Tomsk Polytechnic University (TPU) ; eds. Yu. D. Korolev, N. N. Koval. [С. 215].— , 2019
Yhteisötekijä:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов
Muut tekijät:	Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich
Yhteenveto:	Заглавие с титульного экрана
Kieli:	englanti
Julkaistu:	2019
Aiheet:	электронный ресурс труды учёных ТПУ высокоинтенсивные пучки ионные пучки газы металлы полупроводниковые материалы плазменно-иммерсионное формирование инжекция плазма дрейф
Linkit:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57749
Aineistotyyppi:	Elektroninen Kirjan osa
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630881

Internet