Peculiarities of the formation of high-intensity ion beams of gases, metals and semiconductor materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

التفاصيل البيبلوغرافية
Parent link:	Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 215]
مؤلف مشترك:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов
مؤلفون آخرون:	Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich
الملخص:	Заглавие с титульного экрана
اللغة:	الإنجليزية
منشور في:	2019
الموضوعات:	электронный ресурс труды учёных ТПУ высокоинтенсивные пучки ионные пучки газы металлы полупроводниковые материалы плазменно-иммерсионное формирование инжекция плазма дрейф
الوصول للمادة أونلاين:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57749
التنسيق:	الكتروني فصل الكتاب
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630881

الانترنت