Peculiarities of the formation of high-intensity ion beams of gases, metals and semiconductor materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

ग्रंथसूची विवरण
Parent link:Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 215]
निगमित लेखक: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов
अन्य लेखक: Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich
सारांश:Заглавие с титульного экрана
भाषा:अंग्रेज़ी
प्रकाशित: 2019
विषय:
ऑनलाइन पहुंच:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57749
स्वरूप: इलेक्ट्रोनिक पुस्तक अध्याय
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630881