Peculiarities of the formation of high-intensity ion beams of gases, metals and semiconductor materials; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Detaylı Bibliyografya
Parent link:	Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 215]
Müşterek Yazar:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов
Diğer Yazarlar:	Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Sivin D. O. Denis Olegovich, Shevelev A. E. Aleksey Eduardovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich
Özet:	Заглавие с титульного экрана
Dil:	İngilizce
Baskı/Yayın Bilgisi:	2019
Konular:	электронный ресурс труды учёных ТПУ высокоинтенсивные пучки ионные пучки газы металлы полупроводниковые материалы плазменно-иммерсионное формирование инжекция плазма дрейф
Online Erişim:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57749
Materyal Türü:	Elektronik Kitap Bölümü
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630881

Internet