• English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Advanced
  • High-rate deposition of chromi...
  • Cite this
  • Text this
  • Email this
  • Print
  • Export Record
    • Export to RefWorks
    • Export to EndNoteWeb
    • Export to EndNote
  • Permanent link
High-rate deposition of chromium coatings by magnetron sputtering

High-rate deposition of chromium coatings by magnetron sputtering

Bibliographic Details
Parent link:Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019): 14th International Conference, September 15–21, 2019, Tomsk, Russia/ National Research Tomsk Polytechnic University (TPU) ; eds. Yu. D. Korolev, N. N. Koval. [С. 192].— , 2019
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Other Authors: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich, Bestetti M. Massimiliano
Summary:Заглавие с титульного экрана
Published: 2019
Subjects:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
высокоскоростное осаждение
хромовые покрытия
магнетронное распыление
мишени
подложки
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57740
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630873
  • Holdings
  • Description
  • Similar Items
  • Staff View

Internet

http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57740

Similar Items

  • Nickel and Chromium Deposition by Hot Target Magnetron Sputtering
    Published: (2019)
  • Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source for CrNx coatings deposition
    Published: (2021)
  • Features of copper coatings growth at high-rate deposition using magnetron sputtering systems with a liquid metal target
    Published: (2017)
  • Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate
    Published: (2016)
  • Высокоскоростное магнетронное осаждение покрытий нитрида хрома
    by: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
    Published: (2020)