Temperature gradients in targets with high-intensity implantation and their influence on the characteristics of ion-modified layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Xehetasun bibliografikoak
Parent link:Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 51]
Egile korporatiboa: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий
Beste egile batzuk: Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Lopatin I. V., Ananin P. S. Petr Semenovich, Bleicher G. A. Galina Alekseevna, Ivanova A. I. Anna Ivanovna, Koval T. V. Tamara Vasilievna, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Sivin D. O. Denis Olegovich
Gaia:Заглавие с титульного экрана
Hizkuntza:ingelesa
Argitaratua: 2019
Gaiak:
Sarrera elektronikoa:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57741
Formatua: Baliabide elektronikoa Liburu kapitulua
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630856

Antzeko izenburuak