Temperature gradients in targets with high-intensity implantation and their influence on the characteristics of ion-modified layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Detalhes bibliográficos
Parent link:Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 51]
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники
Outros Autores: Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Lopatin I. V., Ananin P. S. Petr Semenovich, Bleicher G. A. Galina Alekseevna, Ivanova A. I. Anna Ivanovna, Koval T. V. Tamara Vasilievna, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Sivin D. O. Denis Olegovich
Resumo:Заглавие с титульного экрана
Idioma:inglês
Publicado em: 2019
Assuntos:
Acesso em linha:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57741
Formato: Recurso Electrónico Capítulo de Livro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630856

Registos relacionados