Temperature gradients in targets with high-intensity implantation and their influence on the characteristics of ion-modified layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Dettagli Bibliografici
Parent link:Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 51]
Enti autori: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий
Altri autori: Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Lopatin I. V., Ananin P. S. Petr Semenovich, Bleicher G. A. Galina Alekseevna, Ivanova A. I. Anna Ivanovna, Koval T. V. Tamara Vasilievna, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Sivin D. O. Denis Olegovich
Riassunto:Заглавие с титульного экрана
Lingua:inglese
Pubblicazione: 2019
Soggetti:
Accesso online:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57741
Natura: Elettronico Capitolo di libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630856