Temperature gradients in targets with high-intensity implantation and their influence on the characteristics of ion-modified layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)

Bibliographic Details
Parent link:Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019).— 2019.— [С. 51]
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий
Other Authors: Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Lopatin I. V., Ananin P. S. Petr Semenovich, Bleicher G. A. Galina Alekseevna, Ivanova A. I. Anna Ivanovna, Koval T. V. Tamara Vasilievna, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Sivin D. O. Denis Olegovich
Summary:Заглавие с титульного экрана
Language:English
Published: 2019
Subjects:
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57741
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=630856
Description
Summary:Заглавие с титульного экрана