Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Lopatin I. V., Ananin P. S. Petr Semenovich, . . . Sivin D. O. Denis Olegovich. (2019). Temperature gradients in targets with high-intensity implantation and their influence on the characteristics of ion-modified layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019.
শিকাগো স্টাইল (17 তম সংস্করণ) উদ্ধৃতিНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Temperature Gradients in Targets with High-intensity Implantation and Their Influence on the Characteristics of Ion-modified Layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.
M.L.A (9 ম সংস্করণ) উদ্ধৃতিНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Temperature Gradients in Targets with High-intensity Implantation and Their Influence on the Characteristics of Ion-modified Layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.