Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Lopatin I. V., Ananin P. S. Petr Semenovich, . . . Sivin D. O. Denis Olegovich. (2019). Temperature gradients in targets with high-intensity implantation and their influence on the characteristics of ion-modified layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019.
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Temperature Gradients in Targets with High-intensity Implantation and Their Influence on the Characteristics of Ion-modified Layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Temperature Gradients in Targets with High-intensity Implantation and Their Influence on the Characteristics of Ion-modified Layers; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019). 2019, 2019.