Влияние ИМПА магнетронного диода свойства никелевых пленок; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Влияние ИМПА магнетронного диода свойства никелевых пленок; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Detalles Bibliográficos
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVI Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2019 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2019 Т. 1 : Физика.— 2019.— [С. 355-357]
Autor Principal:	Целовальникова А. Е.
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Outros autores:	Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович (научный руководитель)
Summary:	Заглавие с экрана Ni films were obtained by magnetron sputtering of cooled and hot targets. The elemental composition of as-deposited nickel films and after holding in atmosphere during 7 and 14 days was studied. There is shown that the resistance to cracking of Ni coatings deposited by hot target sputtering is higher just as peel adhesion of all samples is satisfactory.
Idioma:	ruso
Publicado:	2019
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ никель пайка керамические изделия тонкие пленки магнетронное распыление металлизация магнетронные диоды адгезионные свойства
Acceso en liña:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55866
Formato:	Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=629718

Internet

http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55866