Формирование градиентного слоя хром-цирконий с помощью магнетронного распыления; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVI Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2019 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2019 Т. 1 : Физика.— 2019.— [С. 274-276] |
|---|---|
| Autor principal: | |
| Autor Corporativo: | |
| Outros Autores: | |
| Resumo: | Заглавие с экрана The gradient Cr-Zr layer was formed by means of magnetron sputtering and ion mixing. There is shown that the optimal ion fluence on Zr substrate with Cr film was 8·1019 ion/m{2}. At higher ion dose, the intensive sputtering of deposited coating was observed. |
| Idioma: | russo |
| Publicado em: |
2019
|
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55848 |
| Formato: | Recurso Eletrônico Capítulo de Livro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=629700 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 629700 | ||
| 005 | 20231101133556.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\30443 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\30441 | ||
| 090 | |a 629700 | ||
| 100 | |a 20190905d2019 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus |d eng | |
| 102 | |a RU | ||
| 105 | |a y z 100zy | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Формирование градиентного слоя хром-цирконий с помощью магнетронного распыления |d The formation of chrome-zirconium gradient layer by magnetron sputtering |f М. Р. Ромбаева |g науч. рук. Д. В. Сиделёв | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 230 | |a 1 компьютерный файл (pdf; 435 Kb) | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 276 (4 назв.)] | ||
| 330 | |a The gradient Cr-Zr layer was formed by means of magnetron sputtering and ion mixing. There is shown that the optimal ion fluence on Zr substrate with Cr film was 8·1019 ion/m{2}. At higher ion dose, the intensive sputtering of deposited coating was observed. | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\30347 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of Fundamental Sciences Development |o сборник научных трудов XVI Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2019 г. |o в 7 т. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой |d 2019 | |
| 463 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\30348 |t Т. 1 : Физика |v [С. 274-276] |d 2019 | |
| 510 | 1 | |a The formation of chrome-zirconium gradient layer by magnetron sputtering |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a слои | |
| 610 | 1 | |a хром | |
| 610 | 1 | |a цирконий | |
| 610 | 1 | |a магнетронное распыление | |
| 610 | 1 | |a перемешивание | |
| 610 | 1 | |a покрытия | |
| 610 | 1 | |a циркониевые сплавы | |
| 610 | 1 | |a тепловыделяющие элементы | |
| 610 | 1 | |a подложки | |
| 700 | 1 | |a Ромбаева |b М. Р. | |
| 702 | 1 | |a Сиделёв |b Д. В. |c физик |c инженер кафедры Томского политехнического университета |f 1991- |g Дмитрий Владимирович |2 stltpush |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет |b Инженерная школа ядерных технологий |b Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга |h 7866 |2 stltpush |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23561 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20190925 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55848 | |
| 942 | |c BK | ||