Влияние типа мишени магнетронного диода на оптические свойства плёнок кремния

Dettagli Bibliografici
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XVI Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2019 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2019
Т. 1 : Физика.— 2019.— [С. 64-66]
Autore principale: Бельгебаева Д. Е.
Ente Autore: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Altri autori: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович (727)
Riassunto:Заглавие с экрана
Silicon films were obtained by magnetron sputtering of Si targets with Al and P dopants. There is shown higher deposition rates (up to 30%) for Si(P) coatings that is caused by higher sputtering yeild. These films are more transparent in compasrison with Si(Al) films in visible range.
Lingua:russo
Pubblicazione: 2019
Soggetti:
Accesso online:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55800
Natura: Elettronico Capitolo di libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=629656

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 629656
005 20231101133554.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\30376 
035 |a RU\TPU\conf\30374 
090 |a 629656 
100 |a 20190903d2019 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus  |d eng 
102 |a RU 
105 |a y z 100zy 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Влияние типа мишени магнетронного диода на оптические свойства плёнок кремния  |d Influence of the type of target of the magnetron diode on the optical properties silicon film  |f Д. Е. Бельгебаева  |g науч. рук. Д. В. Сиделёв 
203 |a Текст  |c электронный 
230 |a 1 компьютерный файл (pdf; 281 Kb) 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 66 (2 назв.)] 
330 |a Silicon films were obtained by magnetron sputtering of Si targets with Al and P dopants. There is shown higher deposition rates (up to 30%) for Si(P) coatings that is caused by higher sputtering yeild. These films are more transparent in compasrison with Si(Al) films in visible range. 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\30347  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of Fundamental Sciences Development  |o сборник научных трудов XVI Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2019 г.  |o в 7 т.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой  |d 2019 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\30348  |t Т. 1 : Физика  |v [С. 64-66]  |d 2019 
510 1 |a Influence of the type of target of the magnetron diode on the optical properties silicon film  |z eng 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a мишени 
610 1 |a магнетронные диоды 
610 1 |a оптические свойства 
610 1 |a пленки 
610 1 |a кремний 
610 1 |a оптические свойства 
700 1 |a Бельгебаева  |b Д. Е. 
702 1 |a Сиделёв  |b Д. В.  |c физик  |c инженер кафедры Томского политехнического университета  |f 1991-  |g Дмитрий Владимирович  |2 stltpush  |4 727 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга  |h 7866  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23561 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20190925  |g RCR 
856 4 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55800 
942 |c BK