Выбор схемы базирования для дорнования глубоких отверстий в различных заготовках; Молодежь и современные информационные технологии

Bibliographic Details
Parent link:	Молодежь и современные информационные технологии.— 2018.— [С. 229-230]
Main Author:	Волков С. Ю.
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения
Other Authors:	Арляпов А. Ю. Алексей Юрьевич
Summary:	Заглавие с титульного экрана
Language:	Russian
Published:	2018
Series:	Информационные технологии в производстве и управлении предприятием
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ схемы базирования дорнование отверстий глубокие отверстия заготовки микронеровности упрочнение поверхностные слои
Online Access:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/46422
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=626348

Internet