The nonisothermal model of the initial stage of ion implantation process

The nonisothermal model of the initial stage of ion implantation process

Dades bibliogràfiques
Parent link:Nanoparticles, nanostructured coatings and microcontainers: technology, properties, applications: 7th International Conference, May 12-15, 2016, Tomsk, Russia/ National Research Tomsk Polytechnic University (TPU). [P. 51].— , 2016
Autor principal: Parfenova E. S. Elena Sergeevna
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Учебно-научная межотраслевая междисциплинарная лаборатория "Моделирование физико-химических процессов в современных технологиях" (УНММЛ "МФХПСТ")
Sumari:Title screen.
Publicat: 2016
Matèries:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
ионная имплантация
обработка
материалы
поверхностные слои
диффузия примесей
механические напряжения
компьютерное моделирование
Accés en línia:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2016/002.pdf
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=624221
Descripció
Sumari:Title screen.

Ítems similars