Анализ микроструктуры пленок на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Bibliografische gegevens
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2017
Т. 1 : Физика.— 2017.— [С. 423-425]
Hoofdauteur: Сунь Чжилэй
Coauteur: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ)
Andere auteurs: Конищев М. Е. Максим Евгеньевич (научный руководитель), Пустовалова А. А. Алла Александровна, Пичугин В. Ф. Владимир Федорович
Samenvatting:Заглавие с экрана
This paper presents the structure analysis results of TiOxNy films, deposited using reactive magnetron sputtering with different O2/N2 flow ratio. The impact of increase of N2 flow upon the films structure has been studied. The analysis was carried out by X-ray diffraction method. The lattice parameters and phase composition were calculated using PowderCell 2.4.
Taal:Russisch
Gepubliceerd in: 2017
Onderwerpen:
Online toegang:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41501
Formaat: MixedMaterials Elektronisch Hoofdstuk
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=622725

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 622725
005 20241125140622.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\conf\21527 
035 |a RU\TPU\conf\21526 
090 |a 622725 
100 |a 20170705d2017 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a y z 100zy 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Анализ микроструктуры пленок на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления  |d Microstructure analysis of titanium oxynitride films deposited by reactive magnetron sputtering  |f Сунь Чжилэй, М. Е. Конищев, А. А. Пустовалова  |g науч. рук. В. Ф. Пичугин 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 425 (5 назв.)] 
330 |a This paper presents the structure analysis results of TiOxNy films, deposited using reactive magnetron sputtering with different O2/N2 flow ratio. The impact of increase of N2 flow upon the films structure has been studied. The analysis was carried out by X-ray diffraction method. The lattice parameters and phase composition were calculated using PowderCell 2.4. 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\21388  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of Fundamental Sciences Development  |o сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г.  |o в 7 т.  |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой  |d 2017 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\21389  |t Т. 1 : Физика  |v [С. 423-425]  |d 2017 
510 1 |a Microstructure analysis of titanium oxynitride films deposited by reactive magnetron sputtering  |z eng 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a биосовместимость 
610 1 |a имплантаты 
610 1 |a медицинское материаловедение 
610 1 |a гладкомышечные клетки 
610 1 |a гемосовместимость 
700 0 |a Сунь Чжилэй  |c физик  |c инженер-исследователь Томского политехнического университета  |f 1992-  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\46146 
701 1 |a Конищев  |b М. Е.  |c физик  |c старший преподаватель Томского политехнического университета  |f 1987-  |g Максим Евгеньевич  |y Томск  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\27837  |9 12872 
701 1 |a Пустовалова  |b А. А.  |c биофизик  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1989-  |g Алла Александровна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31045 
702 1 |a Пичугин  |b В. Ф.  |c российский физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1944-  |g Владимир Федорович  |4 727 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)  |b Физико-технический институт (ФТИ)  |b Кафедра экспериментальной физики (ЭФ)  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\21255 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20200218  |g RCR 
856 4 |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41501 
942 |c BK